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一种太阳能电池减反射膜及其制备方法 CN201810384340.7


本发明涉及一种太阳能电池减反射膜的制备方法,其采用PECVD设备制备减反射膜,减反射膜包括第一氮化硅膜和第二氮化硅膜,制备第一氮化硅膜时,控制氨气和硅烷的流量比为3~5:1,制备第二氮化硅膜时,控制氨气和硅烷的流量比为10~12:1,并控制制备第一氮化硅膜和第二氮化硅膜时,氨气和硅烷的总气体流量为7000~8500sccm。本发明镀膜均匀性好,镀第一层膜与镀第二层膜切换时,气体流量达到平衡的时间快,温度场也更快达到均匀,镀膜致密性增加,能有效提高硅片表面的钝化性能,并且整体均匀性的提升使得电池片的光吸收增加,从而提高电性能,特别是使Voc和Isc同时提升。
专利类型:发明
专利号:201810384340.7
专利申请日:2018.04.26
公开(公告)日:2018.09.28
申请(专利权)人:维科诚(苏州)光伏科技有限公司;
发明(设计)人:张鑫; 范维涛; 孙晨财; 龚小文; 苏杨杨; 黄钧林; 胡晨晖; 彭美平;
国别省市:江苏;32


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