一种用于太阳能电池片的减反射膜及其制造方法 CN201410347598.1

本发明提供一种太阳能电池减反射膜及其制造方法。该太阳能电池减反射膜包括：第一氮化硅层，覆盖于所述太阳能电池片的表面；第二氮化硅层，覆盖于所述第一氮化硅层的上表面；以及第三氮化硅层，覆盖于所述第二氮化硅层的上表面。本发明的三层氮化硅减反射膜可产生良好的钝化效果，提高冶金多晶硅电池片的短路电流，降低反向漏电流，提升光电转换效率；同时，本发明的制造方法通过采用间断性沉积技术，即在两层氮化硅薄膜的沉积之间增加一定的停顿时间，使得每层氮化硅薄膜的生长尽可能完整，制得的冶金多晶硅电池外观颜色更加均匀，可将电池片表面的色差率从原来的30％降至5％左右，大大提高了冶金多晶硅电池的合格率。
专利类型：发明
专利号：201410347598.1
专利申请日：2014.07.21
公开（公告）日：2014.10.08
申请（专利权）人：内蒙古日月太阳能科技有限责任公司;内蒙古大学
发明（设计）人：郭永强;和江变;于利亚;马承鸿;宗灵仑;李健
国别省市：内蒙古;15